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一
科技日报报道，武汉光电国家研究中心棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。甘棕松团队自主开发了多类光刻胶，实现了光刻样机系统关键零部件国产化。
9nm线宽双光束超衍射极限光刻机
光刻机是集成电路生产制造过程中的关键设备，主流深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻机主要由荷兰ASML公司垄断生产，属于国内集成电路制造业的“卡脖子”技术。年甘棕松团队遵循诺贝尔化学奖得主德国科学家斯特凡·W·赫尔的超分辨荧光成像的基本原理，在没有任何可借鉴的技术情况下，开拓了一条光制造新的路径。双光束超衍射极限光刻技术完全不同于目前主流集成电路光刻机不断降低光刻波长，从纳米波长的深紫外（DUV）过渡到13.5纳米波长的极紫外（EUV）的技术路线。甘棕松团队利用光刻胶材料对不同波长光束能够产生不同的光化学反应，经过精心的设计，让自主研发的光刻胶能够在第一个波长的激光光束下产生固化，在第二个波长的激光光束下破坏固化，并将第二束光调制成中心光强为零的空心光与第一束光形成一个重合的光斑，同时作用于光刻胶，于是只有第二束光中心空心部分的光刻胶最终被固化，从而远场突破衍射极限。
纳米加工三维结构的设计及实际光刻效果图
该技术原理自年被甘棕松等验证以来，一直面临从原理验证样机到可商用化的工程样机的开发困难。团队经过2年的工程技术开发，分别克服了材料、软件和零部件国产化等三个方面的难题。开发了综合性能超过国外的包括有机树脂、半导体材料、金属等多类光刻胶，采用更具有普适性的双光束超分辨光刻原理解决了该技术所配套光刻胶种类单一的问题。实现了微纳三维器件结构设计和制造软件一体化，可无人值守智能制造。同时通过合作实现了样机系统关键零部件包括飞秒激光器、聚焦物镜等的国产化，在整机设备上验证了国产零部件具有甚至超越国外同类产品的性能。双光束超衍射极限光刻系统目前主要应用于微纳器件的三维光制造，未来随着进一步提升设备性能，在解决制造速度等关键问题后，该技术将有望应用于集成电路制造。甘棕松说，最关键的是，我们打破了三维微纳光制造的国外技术垄断，在这个领域，从材料、软件到光机电零部件，我们都将不再受制于人。
二
接下来，就来深挖一波相关个股。
1.特发信息：芯片＋5G＋深圳国改。2.金力泰：芯片叠加央企国改。
3.富瀚微：A股稀缺的视频监控芯片设计公司。4.国民技术：公司是国内金融IC卡芯片、金融终端安全芯片厂商。5.兆易创新：国内存储器及MCU芯片产业的龙头企业。6.韦尔股份：模拟芯片龙头。7.国科微：在广播电视芯片市场保持直播卫星市场的龙头地位。8.弘信电子：高速成长的国内柔性印制电路板(FPC)龙头。9.紫光国芯：国内IC设计龙头企业。
10.景嘉微：国内GPU领域领*企业，在*用领域占有绝对主导地位。11.北京君正：国内比较稀少的CPU设计公司。12.盈方微：稀缺的芯片设计公司，受益于国家集成电路产业扶持*策。13.欧比特：宇航IC设计引领者，首家纯民营资本布局卫星星座的企业。14.中颖电子：家电主控单芯片MCU领域龙头。15.全志科技：A股唯一一家拥有独立自主IP核的芯片设计公司。
16.汇顶科技：国内IC市场中科技创新的领先者。17.江丰电子：公司是国内高纯溅射靶材行业龙头。18.阿石创：国内镀膜材料稀缺标的，其有望松动国外垄断格局。19.江化微：国内湿电子化学品领*企业。20.上海新阳：国内晶圆级化学品龙头企业。21.晶瑞股份：湿电子化学品技术领先。22.有研新材：在稀土功能材料、高纯金属靶材等具发展潜力。23.飞凯材料：有望成为电子化学品及液晶材料领域双龙头。
24.南大光电：在LED上游MO源领域技术领先。25.鼎龙股份：打印复印耗材产业链一体化龙头。26.北方华创：我国高端半导体设备上市龙头。27.长川科技：掌握集成电路测试设备相关核心技术。28.至纯科技：公司是国内高纯工艺系统领域的龙头。29.三安光电：国内LED芯片绝对龙头企业。30.士兰微：A股稀缺的半导体IDM标的公司。31.扬杰科技：立足国内功率二极管行业龙头地位。32.华微电子：功率半导体器件龙头。
33.上海贝岭：国内领先的模拟IC供应商，国改的重点对象。34.捷捷微电：公司属于国内晶闸管龙头企业。35.纳思达：完成打印行业全产业链布局，全球龙头雏形渐显。36.长电科技：大陆半导体封测龙头。37.华天科技：国内三大封测之一。38.通富微电：全国TOP3的IC封测企业。39.晶方科技：全球领先的传感器芯片封装测试领导者。40.苏州固锝：国内最大的整流器件生产企业。如果你觉得本文内容不错，就
